レーザー洗浄、レーザーは一種のエネルギービームであり、非接触で環境に優しい方法でなければなりません。レーザー洗浄は、効率と清浄度の点で高品質の基準です。
レーザー洗浄のプロセスは、レーザーによって生成された光パルスと汚染された層との間の相互作用に依存し、光物理的反応をもたらします。ビームの強度と短パルスレーザーの影響を受けます。
1.レーザーから放出されたビームは、処理対象の表面汚染層に吸収されます。
2.吸収により急速に膨張するプラズマ（高度にイオン化された不安定ガス）が形成され、衝撃波が発生します。
3.衝撃波が汚染物質を破片に変えた後、それらは取り除かれます。
4.光パルス幅は、処理面に蓄積された熱による損傷を避けるために十分に短いです。
5.実験によると、金属表面に酸化物があると、金属表面にプラズマが発生します。
各レーザーパルスは、特定の厚さの汚染層を除去します。 汚染された層が厚い場合、洗浄には複数のパルスが必要です。 表面を洗浄するために必要なパルスの数は、表面の汚染の程度によって異なります。
エネルギー密度がしきい値よりも高い光パルスは、対象物質に到達するまで汚染物質を除去します。 そのエネルギー密度は基板材料の破損しきい値よりも低いため、基板が損傷することはありません。原則として、ポイント4で説明した幅は十分に短いです。
